FXR系列真空箱式爐

產(chǎn)品參數(shù)

　　主要應(yīng)用：大采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，主要應(yīng)用于材料金屬低真空、還原性、保護(hù)氣氛下的熱處理工藝，亦可用于特殊領(lǐng)域的材料熱處理工藝。
　　主要特點(diǎn)：具有溫場均勻、表面溫升低、升降溫速率高、節(jié)能等特點(diǎn)，模塊化設(shè)計，產(chǎn)品系列齊全，爐門水冷系統(tǒng)。
　　使用溫度：50℃-1700℃。
　　常用氣氛：空氮?dú)狻鍤?、氧氣、氫氣、CO、真空氣氛。
　　功能選件：耐爐內(nèi)檢測系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、保護(hù)氣氛系統(tǒng)、計算機(jī)集成控制系統(tǒng)、溫度曲線記錄打印、氣氛檢測分析系統(tǒng)、設(shè)備凈化應(yīng)用。